2024北京國際光刻設備及光掩膜技術展覽會
Beijing Photolithography Equipment and Mask Application Technology Exhibition2024
>>基本信息
時間：2024年7月24-26日
地點：北京國家會議中心
>>展會簡介
微電子技術的發展一直是光刻設備和技術變革的動力，21世紀光刻技術將繼續居于諸多技術之首。光刻技術從誕生以來,在半導體加工制造行業中,作為圖形轉移技術而廣為應用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導體加工技術中z為關鍵的光刻技術和光刻工藝設備,必將發生顯著的變化。
隨著集成電路產業的發展，高端芯片的集成度達到了數千乃至數億晶體管，推動芯片封裝技術向更高密度、更高性能發展，在傳統的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進封裝工藝發展需求的情況下，先進的大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為先進封裝生產線的關鍵設備。“2024北京國際光刻設備及光掩膜應用技術展覽會”將于7月24-26日在北京國家會議中心隆重舉辦，歡迎廣大相關單位參展、參觀！
>>展會亮點
收集z新的高質量銷售資訊，結識高質量買家并達成銷售交易。
了解未來生產需求發展全球戰略。
與全國代理、經銷商構建銷售網絡。
通過與各地生產商和買家的合作來發掘新的商業機會。
加強公司品牌建設，提高公司的行業知名度。
獲得關于z新市場趨勢、技術創新、行業z新發展動態以及的相關行業資訊。
>>為何參展
35家合作機構組團參觀
形式多樣的配套會議及活動，涵蓋組團參觀、論壇、訪談
全方位海內外渠道營銷，線上與線下共同造勢
超過300家行業媒體，提供全天候，一站式營銷解決方案
穩固老客戶，開拓新市場，發現新機遇
>>觀眾邀請
邀請全國、省、市、各相關科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導體、微/納電機系統、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業、大學、研究所、咨詢機構和公共機構的專家代表等人員到會參觀、洽談。
>>日程安排
報到布展：2024年07月22-23日 AM8:30-PM19:30
展出時間：2024年07月24日 AM9:30-PM16:45
2024年07月25日 AM9:30-PM16:45
2024年07月26日 AM9:30-PM16:45
>>參展范圍
◆曝光光源、光學系統、電系統、機械系統和控制系統等；
◆光刻機、光刻技術、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術、無掩模光刻技術、沉浸式光刻技術、準分子激光光刻技術、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術、微光刻技術、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統、光刻-掩模無機芯片與加工系統、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設備等；
◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設備、光掩模測試等；
>>聯系我們
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